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Thermal ALD와 Plasma Enhanced ALD 기법을 사용해 제작된 HfO2 박막의 전기적 특성 및 Si/HfO2 계면 분석
학술지명 : 한국재료학회 추계학술대회
게재년월 : 2021.11.25
"Thermal ALD와 Plasma Enhanced ALD 기법을 사용해 제작된 HfO2 박막의 전기적 특성 및 Si/HfO2 계면 분석"


안영환, 이왕곤, 김지웅, 서형탁*


2021 한국재료학회 추계 학술대회, 오프라인 개최, 11월 25일 [Oral]

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